HiPIMS高功率脉冲磁控溅射电源被广泛应用于各类PVD和PECVD工艺，用来制备高端金属装饰膜,功能膜和类金刚石(DLC)膜层等。相较于中频磁控溅射电源，HiPIMS有着离化率高，绕镀性好，膜层致密性好，成膜色泽优异等特点。HiPIMS最典型的应用包括对膜层致密性要求高的各类功能膜和硬质膜，iPhone的玫瑰金手机壳，高端手表表壳等。行业领先的精新HiPIMS电源作为可对标德国霍廷格(TRUMPF Hüttinger)同类型电源的产品，已为国内十多家真空镀膜客户提供了优质服务，广受好评。